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技術文章

納米粒度儀分析儀的工作原理和功能特點介紹

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   納米粒度儀分析儀在一臺儀器中集成了動態(tài)光散射技術和靜態(tài)光散射兩種技術。動態(tài)光散射法用于測量粒度及分子大小,靜態(tài)光散射法用于確定蛋白質(zhì)與聚合物的分子量。這種技術對整個系統(tǒng)的穩(wěn)定性的要求*,要求每個設計元素都必須實現(xiàn)優(yōu)化,以確保高準確性和重現(xiàn)性。采用光路密閉設計,防止污染。
 
  納米粒度儀分析儀的工作原理:
  采用全量程米氏散射理論,充分考慮到被測顆粒和分散介質(zhì)的折射率等光學性質(zhì),根據(jù)大小不同的顆粒在各角度上散射光強的變化反演出顆粒群的粒度分布數(shù)據(jù)。
  顆粒測試的數(shù)據(jù)計算一般分為約束擬合反演和有約束擬合反演兩種方法。有約束擬合反演在計算前假設顆粒群符合某種分布規(guī)律,再根據(jù)該規(guī)律反演出粒度分布。這種運算相對比較簡單,但由于事先的假設與實際情況之間不可避免會存在偏差,從而有約束擬合計算出的測試數(shù)據(jù)不能真實反映顆粒群的實際粒度分布。
  約束擬合反演即測試前對顆粒群不做任何假設,通過光強直接準確地計算出顆粒群的粒度分布。這種計算前提是合理的探測器設計和粒度分,給設備本身提出很高的要求。采用優(yōu)的非均勻性交叉三維扇形矩陣排列的探測器陣列和合理的粒度分,從而能夠準確地測量顆粒群的粒度分布。
 
  納米粒度儀分析儀的功能特點:
  1、反演算法:采用擬合累積反演法和基于V-曲線判斷準則的正則化算法反演顆粒粒徑及其粒度分布,使測量結果的準確度和重復性均小于1%。
 
  2、抗噪能力:采用小波消噪技術,解決了散射光強較低時,噪聲過大對測量結果的影響。
 
  3、溫控系統(tǒng):基于半導體制冷裝置,采用自適應PID控制算法,使溫度控制精度達±0.1℃。
 
  4、穩(wěn)定的光路系統(tǒng):采用恒溫固態(tài)激光光源和單模保偏光纖技術搭建而成的光路系統(tǒng),保證了光子相關光譜測量系統(tǒng)的穩(wěn)定性和準確度。

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